Tìm Kiếm
Âu Lạc
  • English
  • 正體中文
  • 简体中文
  • Deutsch
  • Español
  • Français
  • Magyar
  • 日本語
  • 한국어
  • Монгол хэл
  • Âu Lạc
  • български
  • Bahasa Melayu
  • فارسی
  • Português
  • Română
  • Bahasa Indonesia
  • ไทย
  • العربية
  • Čeština
  • ਪੰਜਾਬੀ
  • Русский
  • తెలుగు లిపి
  • हिन्दी
  • Polski
  • Italiano
  • Wikang Tagalog
  • Українська Мова
  • Khác
  • English
  • 正體中文
  • 简体中文
  • Deutsch
  • Español
  • Français
  • Magyar
  • 日本語
  • 한국어
  • Монгол хэл
  • Âu Lạc
  • български
  • Bahasa Melayu
  • فارسی
  • Português
  • Română
  • Bahasa Indonesia
  • ไทย
  • العربية
  • Čeština
  • ਪੰਜਾਬੀ
  • Русский
  • తెలుగు లిపి
  • हिन्दी
  • Polski
  • Italiano
  • Wikang Tagalog
  • Українська Мова
  • Khác
Tiêu Đề
Bản Ghi
Tiếp Theo
 

Vượt Trên Giới Hạn Của Chế Tạo Vi Mạch: Công Nghệ Trong Thạch Bản Siêu Cực Tím, Phần 2/2

Chi Tiết
Tải Về Docx
Đọc thêm
In the coming years, the application of microchips will continue to expand, the demand for chips will also continue to grow. However, the traditional 193 nm lithography has reached its limit and must be replaced with its 13.5 nm EUV counterpart. It is generally agreed that EUV lithography is the most difficult technology to perfect in the history of the semiconductor industry — so challenging that it is comparable to NASA’s Moon landing project.
Chia sẻ
Chia sẻ với
Nhúng
Bắt đầu tại
Tải Về
Điện Thoại
Điện Thoại
iPhone
Android
Xem trên trình duyệt di động
GO
GO
Prompt
OK
Ứng Dụng
Quét mã QR,
hoặc chọn hệ điều hành phù hợp để tải về
iPhone
Android